氣相沈積膜冷凝在所謂的物理學中是常見的。
氣相沈積(PVD法)。PVD方法是通過三個主要步驟:生成
在氣相中蒸發或升華的物質正在減少大氣；
將材料從源輸送到襯底；並形成薄膜。
核與擴散。PVD方法的例子包括電子束蒸發，
分子束外延，熱蒸發，濺射，陰極電弧等離子體沈積，
和脈沖激光沈積。這些沈積技術已經廣泛應用於
各種電子材料的塗層，如絕緣體、半導體、導體，
和超導性。這些技術最近被用於存儲納米粒子。
先進的電子設備和耐磨外觀的大型多層結構。