光刻膠的作用是什麽？

1.光刻膠是壹種具有光敏化學作用(或對電子能量敏感)的高分子材料，是轉移紫外曝光或電子束曝光圖形的介質。光刻膠的英文名是resist，也翻譯成resist、photoresist等。光致抗蝕劑的功能是作為抗蝕刻層保護襯底表面。光致抗蝕劑只是壹種圖像，因為它在外觀上是以膠狀液體出現的。

2.光致抗蝕劑通常以薄膜的形式均勻地覆蓋在襯底的表面上。當被紫外光或電子束照射時，光致抗蝕劑材料的特性將會改變。經過顯影液顯影後，曝光後的負性光刻膠或未曝光的正性光刻膠會殘留在基板表面，從而將設計好的微納結構轉移到光刻膠上，通過後續的刻蝕、沈積等工藝，可以將圖案進壹步轉移到光刻膠下方的基板上，最後可以使用除膠劑去除光刻膠。

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